ГОСТ 25196-82 Оборудование вакуумное. Установки для ионной имплантации. Общие технические требования

Название англ.: Vacuum equipment. Apparatus for ion implantation. General technical requirements

Содержание госта: Настоящий стандарт распространяется на установки для ионной имплантации, предназначенные для внедрения ионов твердых, газообразных и жидких веществ массой от 1,666 57х10 в ст. минус 27 до 217,534 67х10 в ст. минус 27 кг (от 1 до 131 а. е. м.), в том числе элементарных и многозарядных ионов бора, фосфора, цинка, мышьяка, селена и сурьмы с эквивалентной энергией ионов от 1,6х10 в ст. минус 15 до 1,6х10 в ст. минус 13 Дж (от 10 до 1200 кэВ) при изготовлении полупроводниковых приборов, интегральных схем и других изделий микроэлектроники

(Обмен техническими документами осуществляется на форуме):
ГОСТ 25196-82 Оборудование вакуумное. Установки для ионной имплантации. Общие технические требования (фото 1 из 3)
ГОСТ 25196-82 Оборудование вакуумное. Установки для ионной имплантации. Общие технические требования (фото 2 из 3)
ГОСТ 25196-82 Оборудование вакуумное. Установки для ионной имплантации. Общие технические требования (фото 3 из 3)

Еще бесплатно скачать

Рейтинг:
  • Итоги рейтинга 4.00/5
  • 1
  • 2
  • 3
  • 4
  • 5
4.0/5 (1 голос)

Данную страницу никто не комментировал. Вы можете стать первым.

Ваше имя:
Ваша почта:

RSS
Комментарий:
Введите символы: *
captcha
Обновить